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    泡沫清洗是一種先進的設備外表面清洗方式,清潔劑以泡沫的形式噴到設備表面,粘稠的泡沫可以在設備表面停留較長時間,以便與污垢充分接觸、浸潤和反應,從而提高了清洗效果

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    自動去膠清洗設備

      自動去膠清洗設備,用于去除基片表面刻蝕工藝過程中作為刻蝕材料保護膜的光刻膠掩膜,也可用于基片表面其它有機物的等離子體清洗。

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    單片清洗設備

    單晶圓腐蝕清洗設備,可廣泛應用于刻蝕、剝離、化學減薄、顯影、去膠、材料清洗等濕法工藝,采用單晶圓處理方式,具有均勻性好,工藝可控性高等特點。   &n

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    中國電子科技集團公司第四十五研究所

    自動刷片清洗設備

    全自動刷片清洗設備,用于硅片、藍寶石片等材料片的清洗工藝。該設備利用刷洗的方式,對切、磨、拋后的晶圓進行清洗。    

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    多晶硅硅芯清洗設備

    多晶硅硅芯清洗設備該設備主要用于硅芯、母料、區熔料、橫梁等棒狀料的清洗。采用龍門機械手自動抓取PVDF料籠,依次完成腐蝕、沖洗、超聲漂洗、烘干等工藝流程,實現清

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    多晶硅磁環清洗設備

    多晶硅磁環清洗設備該設備主要用于多晶硅生產中的配套磁環的清洗。采用機械手自動抓取不銹鋼花籃,依次完成堿洗、清洗、超聲漂洗、切水、烘干等工藝流程,達到清洗后的硅塊

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    在LED外延及芯片制造領域,濕法設備占據約40%的工藝,隨著工藝技術的不斷發展,濕法設備已經成為LED外延及芯片制造領域的關鍵設備,如SPM酸清洗、有機清洗、顯

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