光學材料鍍膜北京埃德萬斯離子束技術研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術研究所，成立于2001年，自主獨立設計了離子束刻蝕設備和雙離子束濺射沉積鍍膜設備，其自主設計的考夫曼離子源穩定性≤±3%

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離子刻蝕技術北京埃德萬斯離子束技術研究所股份有限公司原名為北京埃德萬斯離子束技術研究所，成立于2001年，自主獨立設計了離子束刻蝕設備和雙離子束濺射沉積鍍膜設備，其自主設計的考夫曼離子源穩定性≤±3%

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