二次印刷工藝設(shè)備中國(guó)電科45所<具有料盒式自動(dòng)上料、柔性傳輸、自動(dòng)印刷、履帶式烘干的全自動(dòng)印刷線；整線包括四個(gè)印刷工序，正銀采用二次印刷工藝，可滿足目前太陽能電池印刷工藝率、高精度、低碎片率、穩(wěn)

硅芯清洗設(shè)備中國(guó)電科45所<SFQ/SFQZ系列濕法設(shè)備廣泛應(yīng)用于集成電路、光電子器件、MEMS及分立器件、半導(dǎo)體材料加工、太陽能光伏等領(lǐng)域，用于各種半導(dǎo)體基片及類似材料制造過程中濕化學(xué)處理工藝

厚膜電路印刷機(jī)中國(guó)電科45所<該機(jī)屬半自動(dòng)厚膜絲網(wǎng)印刷機(jī)，適用于厚膜電路、LED陶瓷基板、太陽能電池片、液晶顯示器、表面貼裝等電子元器件的圖形印刷，采用手動(dòng)上下料，自動(dòng)印刷。   &n

厚膜絲網(wǎng)印刷機(jī)中國(guó)電科45所<該機(jī)屬半自動(dòng)厚膜絲網(wǎng)印刷機(jī)，適用于厚膜電路、LED陶瓷基板、太陽能電池片、液晶顯示器、表面貼裝等電子元器件的圖形印刷，采用手動(dòng)上下料，自動(dòng)印刷。   &n

激光打標(biāo)機(jī)中國(guó)電科45所<JDB系列激光打標(biāo)機(jī)主要用于電子器件的金屬及塑料管殼、PCB板、硅晶圓、金屬材料等多種材料表面進(jìn)行字符、圖形、條形碼、二維碼等復(fù)雜圖形的標(biāo)刻。設(shè)備包括半自動(dòng)機(jī)型和全自動(dòng)

激光打孔機(jī)中國(guó)電科45所<JW系列激光打孔/切割機(jī)主要用于LTCC\HTCC等多種陶瓷材料及多層復(fù)合材料進(jìn)行圓孔、方孔等復(fù)雜異形圖形的加工。    激光打孔機(jī)中國(guó)電科45所

激光劃片機(jī)中國(guó)電科45所JHQ系列激光劃片機(jī)針對(duì)二極管、三極管等器件晶圓進(jìn)行精密劃切。具有圖形對(duì)準(zhǔn)、自動(dòng)θ向旋轉(zhuǎn)、正面劃切、背面劃切等功能。設(shè)備包括半自動(dòng)機(jī)型和全自動(dòng)機(jī)型。    

激光微加工設(shè)備中國(guó)電科45所<JHQ系列激光劃片機(jī)針對(duì)二極管、三極管等器件晶圓進(jìn)行精密劃切。具有圖形對(duì)準(zhǔn)、自動(dòng)θ向旋轉(zhuǎn)、正面劃切、背面劃切等功能。設(shè)備包括半自動(dòng)機(jī)型和全自動(dòng)機(jī)型。  

金剛線多線切割機(jī)中國(guó)電科45所<該設(shè)備主要適用于藍(lán)寶石、碳化硅、人工晶體、激光晶體、硬脆金屬等材料的切片加工。具有占地面積小、切料尺寸大、切割速度快、切片精度高、操作簡(jiǎn)單方便、運(yùn)行穩(wěn)定可靠及維護(hù)

晶體切割設(shè)備中國(guó)電科45所<DXQ-2520多線切割機(jī)主要適用于磁性材料、半導(dǎo)體、水晶、閃爍晶體、熱電半導(dǎo)體、陶瓷、鐵電晶體、硬脆金屬等材料的切片加工。具有占地面積小、切料尺寸大、切割速度快、切

精密填孔絲印機(jī)中國(guó)電科45所<HTCC精密填孔絲印機(jī)是用于5、8寸有框HTCC、LTCC生瓷基片的自動(dòng)上料、高壓力微孔填充、自動(dòng)下料的自動(dòng)化生產(chǎn)線。    精密填孔絲印機(jī)中國(guó)

皮秒激光劃片設(shè)備中國(guó)電科45所<JHQ系列激光劃片機(jī)針對(duì)二極管、三極管等器件晶圓進(jìn)行精密劃切。具有圖形對(duì)準(zhǔn)、自動(dòng)θ向旋轉(zhuǎn)、正面劃切、背面劃切等功能。設(shè)備包括半自動(dòng)機(jī)型和全自動(dòng)機(jī)型。  

片式電感印刷機(jī)中國(guó)電科45所WY-2211片式電感印刷機(jī)是應(yīng)用于多層陶瓷片式電感制造工序中印刷工藝環(huán)節(jié)的全自動(dòng)印刷生產(chǎn)線，整線集自動(dòng)上料、精密印刷、烘干、自動(dòng)下料為一體，實(shí)現(xiàn)全程無人工干預(yù)，具有精密、

曝光機(jī)中國(guó)電科45所<WY-2211片式電感印刷機(jī)是應(yīng)用于多層陶瓷片式電感制造工序中印刷工藝環(huán)節(jié)的全自動(dòng)印刷生產(chǎn)線，整線集自動(dòng)上料、精密印刷、烘干、自動(dòng)下料為一體，實(shí)現(xiàn)全程無人工干預(yù)，具有精密、

光刻機(jī)中國(guó)電科45所<雙面曝光機(jī)是利用紫外線將上下掩膜版的圖形同時(shí)轉(zhuǎn)移到涂有光刻機(jī)的上下表面。該型產(chǎn)品主要用于半導(dǎo)體光電器件、功率器件、傳感器、混合電路、微波器件及MEMS等制作的雙面對(duì)準(zhǔn)和曝光