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    雙面接觸式曝光機

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    中國電子科技集團公司第四十五研究所

    • 聯系人:李斌
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    • 經營模式:其他機構
    • 主營產品:硅片甩干機,探針測試臺,硅片清洗刻蝕設備,太陽能光伏制造設備價格,激光打孔機價格
    • 所在地:北京市#北京市北京市大興區亦莊經濟技術開發區泰河三街1號
    • 供應產品:142
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    雙面曝光機是利用紫外線將上下掩膜版的圖形同時轉移到涂有光刻機的上下表面。該型產品主要用于半導體光電器件、功率器件、傳感器、混合電路、微波器件及MEMS等制作的雙面對準和曝光,可實現2-4英寸晶圓的曝光加工能力。    


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